de en
Steinbeis Transferzentrum Tribologie
  • Oberflächenanalyse
    • Oberflächenanalyse
    • Oberflächen- und Rauheitsmessung 2D/3D
    • Form- und Konturmessung
    • Lichtmikroskopie
  • Materialprüfung und -analyse
  • Schichtanalyse
  • Tribologie
    • Tribologie Information
    • Verschleißanalyse
    • Verschleißprüfung
    • Reibwertmessung
  • Seminare
    • Seminar Tribologie
    • Seminar Rauheit
  • Wiki
    • Oberflächenmessung
    • Härteprüfung
  • Unternehmen
    • Das Unternehmen
    • Laborausstattung
    • Veröffentlichungen
    • Kontakt und Anfrage
  • Englisch
  • Deutsch
  • Suche
  • Menü Menü
  • Oberflächenanalyse
    • Oberflächen- und Rauheitsmessung 2D/3D
    • Form- und Konturmessung
    • Lichtmikroskopie
  • Materialprüfung
  • Schichtanalyse
  • Tribologie
  • Seminare
    • Seminar Tribologie
    • Seminar Rauheit
  • Wiki
    • Oberflächenmessung
    • Härteprüfung
  • Kontakt
Startseite1 Unternehmen2 Laborausstattung3 Rasterkraftmikroskop LensAFM Nanosurf

Laborausstattung

  • Stereomikroskop SZX7 Olympus
  • Digitalmikroskop VHX2000 Keyence
  • Auflichtmikroskop BX53M Olympus
  • Konfokales Laser-Scanning-Mikroskop LEXT OLS4100 Olympus
  • Konfokalmikroskop & Weißlichtinterferometer Plu S neox Sensofar
  • Weißlichtinterferometer NewView 5032 Ametek
  • Mobiles Weißlichtinterferometer Zegage 0101 Ametek
  • Ebenheitsmessgerät TMS-100 TopMap Polytec
  • Digitaler Profilprojektor IM 6120 Keyence
  • Rasterkraftmikroskop LensAFM Nanosurf
  • Rundheitmessmaschine MMQ200 Mahr
  • Mikrohärteprüfgerät MHT Anton Paar
  • Mikro-Ritztester MST Anton Paar
  • Nanoindenter NHT Anton Paar
  • Kalottenschleifgerät CALOTEST Anton Paar
  • Reflektometer NanoCalc-VIS Ocean Optics
  • Rasterelektronenmikroskop EVO MA10 Zeiss
  • Härteprüfmaschine KB 250 KB Prüftechnik
  • Photothermischer Randzonen-Analysator FORATHERM ILM Ulm
  • Kontaktwinkelmessgerät OCA15 Dataphysics
  • Oberflächeninspektionsgerät Trevista SAC
  • 3D-Koordinatenmessmaschine Contura G2 RDS Zeiss
  • Tribometer TRB3 Anton Paar

Rasterkraftmikroskop (AFM)
Lens AFM Nanosurf

www.nanosurf.com

Modell LensAFM

Rasterkraftmikroskop (AFM Mikroskop) für hochauflösende Analysen von Oberflächen

Mit dem Rasterkraftmikroskop (AFM Mikroskop) werden hochauflösende Oberflächenmessungen durchgeführt, die wir als Dienstleistung anbieten. Mit der Rasterkraftmikroskopie (AFM) werden die Mikrostrukturen einer Oberfläche mit einer Ortsauflösung im Nanometerbereich erfasst. Diese können dann später visualisiert und quantifiziert werden. Das LensAFM V2 der Fa. Nanosurf ermöglicht auch die ortsaufgelöste Messung der Leitfähigkeit, der Adhäsionskraft, des Elastizitätsmoduls, der magnetischen Domänen und der elektrostatisch geladenen Domänen.

Als Prüflabor an der Hochschule in Karlsruhe bietet wir die Oberflächenanalysen mit dem Rasterkraftmikroskop als Dienstleistung an. Gerne vermessen wir auch Ihre Proben! Wir arbeiten auf der wissenschaftlichen Grundlage einer Hochschule, mit der Handlungskompetenz eines Industrieunternehmens.

Analysen

  • Topographie 3D
  • Kontur 3D
  • Stufenhöhen
  • Kantenradius
  • Leitfähigkeit
  • Strom-Spannungs-Kurven
  • Adhäsionskraft
  • Elastizitätsmodul
  • Magnetische Eigenschaften
  • Elektrische Eigenschaften

Messmodi

  • AFM (atomic force microscopy) – Topographie
  • C-AFM (conductive atomic force microscopy) – Leitfähigkeit
  • AFM Force Spectroscopy – Kraft-Spektroskopie
  • MFM (magnetic force microscopy)
  • EFM (electrostatic force microscopy)

Beispiel

  • AFM Topografiemessung

Spezifikation

  • XY-Auflösung: 1.7 nm
  • Z-Auflösung: 0.34 nm
  • XY-Scanbereich: max. 110 µm
  • Z-Scanbereich: max. 22 µm

Topografiemessung (AFM)

Bei der Rasterkraftmikroskopie (englisch: AFM – atomic force microscopy) tastet eine an einer Blattfeder (Cantilever) befindliche Messnadel die Oberfläche ab. Das Rasterkraftmikroskop ist ein Rastersondenmikroskop und rastert mit einer Messspitze die Oberfläche der zu untersuchenden Oberfläche Zeile für Zeile ab. Wenn die Messnadelspitze mit einem Radius im Nanometerbereich sich der Oberfläche annähert, erhöhen sich die atomaren Wechselwirkungskräfte (van-der-Waals-Kräfte) zwischen Nadel und Oberfläche um eine Größenordnung. Neutrale Atome im Bereich eines interatomaren Abstandes ziehen sich mit den so genannten Dispersions- oder van-der-Waals-Kräften an. Diese Kraft wird umso größer, je kleiner der Abstand zwischen der Spitze und Messobjekt ist. Die Auslenkung wird mit einem Laser gemessen und aus dem Signal ein Maß für die Topographie berechnet. Die Messung mit dem Rasterkraftmikroskop erfolgt üblicherweise im Non-Contact-Mode, was bedeutet, dass die Auslenkung der Nadel rein aufgrund der van-der-Waals-Kräfte erfolgt und nicht durch mechanischen Kontakt der Nadel mit der Oberfläche.

Leitfähigkeitsmessungen (C-AFM)

Mit der leitfähigen Rasterkraftmikroskopie (C-AFM: conductive atomic force microscopy) oder stromabtastende Rasterkraftmikroskopie (CS-AFM: current sensing atomic force microscopy) wird die Topographie eines Materials und der elektrische Stromfluss am Kontaktpunkt der Spitze (Cantilever) gemessen. Durch die hohe Auflösung des Rasterkraftmikroskops ist es möglich topographische Stromkorrelationen zu bestimmen und somit die Leitfähigkeit an der Oberfläche ortsaufgelöst zu bestimmen.

Kraftspektroskopie

Mit einem Rasterkraftmikroskop (AFM) können sogenannte Kraft-Abstandskurve (Force-Distance-Curve) aufgenommen werden. Dazu wird ein kalibrierter Cantilever auf die Probe abgesenkt, mit definierter Kraft aufgedrückt und wieder entfernt. Aus dieser Kurve lassen sich Rückschlüsse auf die ortsaufgelösten Größen wie Adhäsionskraft an der Oberfläche und Elastizität (E-Modul) des Materials gewinnen.

Verwandte Themenbereiche

  • Oberflächen- und Rauheitsmessung 2D/3D
Prof. Dr.-Ing. Dietmar Schorr

E-Mail: kontakt@steinbeis-analysezentrum.com
Tel: +49 721 9735 831
Mobil: +49 172 9057349

Impressum - Datenschutz
© Steinbeis Transferzentrum | Webseite erstellt von Neckarmedia Werbeagentur
Nach oben scrollen

Wir nutzen Cookies um Ihnen eine angenehmere Erfahrung mit unserer Webseite zu bieten, zur Erhebung statistischer Daten sowie zum Onlinemarketing. Klicken Sie auf „Essentielle und statische Cookies akzeptieren“, um alle Cookies zu akzeptieren oder klicken Sie auf "Nur essentielle Cookies akzeptieren" für die Basisfunktionalität unserer Webseite. Via "Individuelle Cookie Einstellungen" erhalten Sie eine detaillierte Beschreibung der von uns verwendeten Arten von Cookies und Informationen über die entsprechenden Anbieter. Sie können dort entscheiden, welche Arten von Cookies bei der Nutzung unserer Website gesetzt werden sollen.

Essentielle und statische Cookies akzeptierenNur essentielle Cookies akzeptierenIndividuelle Cookie EinstellungenDatenschutzerklärung

Individuelle Cookie Einstellungen



Statistik Cookies

Statistik Cookies erfassen Informationen anonym. Diese Informationen helfen uns zu verstehen, wie unsere Besucher unsere Website nutzen.

Essenzielle Cookies

Essenzielle Cookies ermöglichen grundlegende Funktionen und sind für die einwandfreie Funktion der Website erforderlich.

Einstellungen speichernNur essenzielle Cookies akzeptieren
Nachrichtenleiste öffnen
  • kontakt@steinbeis-analysezentrum.com
  • +49 721 9735 831
  • Kontaktformular