Modell TMS-100
Optisches Ebenheitsmessgerät für optische Messungen von Ebenheit und Parallelität
Mit dem optischen Ebenheitsmessgerät werden die Ebenheit und Parallelität von Oberflächen sehr präzise bestimmt und mit einer höheren Genauigkeit als mit einer Koordinatenmessmaschine. Damit werden die Formabweichungen von feingeschliffenen, polierten, gefinishten oder geläppten Oberflächen im Mikrometer- und Submikrometerbereich berührungslos bestimmt. Bei dem Oberflächenmessgerät TMS-100 TopMap handelt sich hierbei um ein Weißlichtinterferometer mit einem deutlichen größeren Messfeld als üblicherweise bei einem WLI. Dieses tastet die Oberfläche sehr präzise und berührungslos ab. Durch die berührungslose Oberflächenmessung eignet sich die optische Ebenheitsmessung für empfindliche Materialien. Die Bandbreite der Oberflächenprüfungen reicht dabei von Bauteilen für die Automobil-, die Luftfahrt-, Halbleiterindustrie bis hin zur Medizintechnik.
Als Steinbeis-Transferzentrum bieten wir optische Messungen der Ebenheit von Oberflächen als Dienstleistung an.
Analysen
- Ebenheitsabweichung
- Parallelitätsabweichung
- Schichtdickenmessung
Materialien
- Metall
- Keramik
- Kunststoff
- Glas
Normen
- Ebenheit: ISO 12781
- Parallelität: ISO 1101
Beispiel
- Ergebnis optische Ebenheitsmessung
Spezifikation
- Lichtquelle: Weißlicht
- Auflösung: 2.83 nm vertikal, 26.7 µm lateral
- Messfeld: 37 x 28 mm²
- Messbereich vertikal: 70 mm
- Schichtdicke: > 8 µm, max. 8 Einzelschichten
Optische Ebenheitsmessung
Das optische Ebenheits- und Parallelitäts-Messgerät TMS-100 TopMap dient zur berührungslosen Messung der Ebenheit, Welligkeit und Durchbiegung (Warp, Bow) von reflektierenden Oberflächen aller Art. Das optische Messprinzip gewährleistet dabei eine hohe Genauigkeit mit bis zu 0.1 µm absolut über das gesamte Messfeld.