de en
Steinbeis Transferzentrum Tribologie
  • Oberflächenanalyse
    • Oberflächenanalyse
    • Oberflächen- und Rauheitsmessung 2D/3D
    • Form- und Konturmessung
    • Lichtmikroskopie
  • Materialprüfung und -analyse
  • Schichtanalyse
  • Tribologie
    • Tribologie Information
    • Verschleißanalyse
    • Verschleißprüfung
    • Reibwertmessung
  • Seminare
    • Seminar Tribologie
    • Seminar Rauheit
  • Wiki
    • Oberflächenmessung
    • Härteprüfung
  • Unternehmen
    • Das Unternehmen
    • Laborausstattung
    • Veröffentlichungen
    • Kontakt und Anfrage
  • Englisch
  • Deutsch
  • Suche
  • Menü Menü
  • Oberflächenanalyse
    • Oberflächen- und Rauheitsmessung 2D/3D
    • Form- und Konturmessung
    • Lichtmikroskopie
  • Materialprüfung
  • Schichtanalyse
  • Tribologie
  • Seminare
    • Seminar Tribologie
    • Seminar Rauheit
  • Wiki
    • Oberflächenmessung
    • Härteprüfung
  • Kontakt
Startseite1 Unternehmen2 Laborausstattung3 Reflektometer NanoCalc-VIS Ocean Optics

Laborausstattung

  • Stereomikroskop SZX7 Olympus
  • Digitalmikroskop VHX2000 Keyence
  • Auflichtmikroskop BX53M Olympus
  • Konfokales Laser-Scanning-Mikroskop LEXT OLS4100 Olympus
  • Konfokalmikroskop & Weißlichtinterferometer Plu S neox Sensofar
  • Weißlichtinterferometer NewView 5032 Ametek
  • Mobiles Weißlichtinterferometer Zegage 0101 Ametek
  • Ebenheitsmessgerät TMS-100 TopMap Polytec
  • Digitaler Profilprojektor IM 6120 Keyence
  • Rasterkraftmikroskop LensAFM Nanosurf
  • Rundheitmessmaschine MMQ200 Mahr
  • Mikrohärteprüfgerät MHT Anton Paar
  • Mikro-Ritztester MST Anton Paar
  • Nanoindenter NHT Anton Paar
  • Kalottenschleifgerät CALOTEST Anton Paar
  • Reflektometer NanoCalc-VIS Ocean Optics
  • Rasterelektronenmikroskop EVO MA10 Zeiss
  • Härteprüfmaschine KB 250 KB Prüftechnik
  • Photothermischer Randzonen-Analysator FORATHERM ILM Ulm
  • Kontaktwinkelmessgerät OCA15 Dataphysics
  • Oberflächeninspektionsgerät Trevista SAC
  • 3D-Koordinatenmessmaschine Contura G2 RDS Zeiss
  • Tribometer TRB3 Anton Paar

Reflektometer
NanoCalc-VIS Ocean Optics

www.oceanoptics.com

Spektroskopisches Reflektometer für optische Schichtdickenmessung

Mit dem spektroskopischen Reflektometer werden Schichtdickenmessung von transparenten Beschichtungen, was wir als Dienstleistung anbieten. Dieses Verfahren wird eingesetzt zur Messung der Schichtdicke von dünnen Schichten. Das können beispielsweise Schutzlacke von Elektronikplatinen oder Ölfilme sein. Mit dem spektroskopischen Reflektometer können die Schichtdicken von Einzelschichten und von Mehrschichtsystemen bestimmt werden.

Als Labor an der Hochschule in Karlsruhe führen wir als Steinbeis-Transferzentrum die optischen Schichtdickenmessungen auf wissenschaftlicher Grundlage, mit der Handlungskompetenz eines Industrieunternehmens, aus.

Beschichtungen für optische Schichtdickenmessung

  • Halbleiter (Fotolacke, Dünnschichtsysteme, Oxide, Nitride)
  • Beschichtungen (Schutzlacke Antireflexschichten, Antikratzschichten, Filterschichten, Optische Filter)
  • Displays (Cell Gap, Polimide, ITO Schichten)
  • Ölfilme

Spezifikation

  • Schichtdicke: 40 nm – 20 µm
  • Mehrschichtsysteme: max. 9 Schichten
  • Auflösung: 1 nm
  • Messfleck: 20 – 80 µm
  • Bauteilhöhe: max. 40 mm

Reflektometrische
Interferenzspektroskopie

Bei der Reflektometrische Interferenzspektroskopie nutzt man den Effekt, dass beim Auftreffen von Licht auf eine Grenzfläche zwischen zwei Medien mit unterschiedlichem Brechungsindex ein Teil der Strahlung reflektiert und ein anderer transmittiert wird. Als Lichtquelle wird bei einem Reflektometer weißes Licht senkrecht auf eine Oberfläche gestrahlt. Die unterschiedliche Länge der zurückgelegten Wege der Teilstrahlen führt zum Gangunterschied und damit zur relativen Phasenverschiebung. Für jede eingestrahlte Wellenlänge kommt es zu Überlagerungen der an den beiden Phasengrenzen einer Schicht reflektierten Teilwellen in Abhängigkeit vom Einfallswinkel, dem Brechungsindex n und von der Schichtdicke d. Damit erhält man beim einem Reflektometer ein charakteristisches Interferenzspektrum. Die Lage der Extrema im Spektrum ist abhängig von der optischen Schichtdicke n⋅d und hieraus kann die Schichtdicke von dünnen transparenten Schichten bestimmt werden.

Die Voraussetzung, um die Schichtdicke von Multilagen-Schichtsystemen mit einem Reflektometer optisch zu messen, ist, dass der grundsätzliche Schichtaufbau bekannt ist. Des Weiteren muss die ungefähre Schichtdicke der jeweiligen Einzelschichten bekannt sein.

Verwandte Themenbereiche

  • Schichtdickenmessung
Prof. Dr.-Ing. Dietmar Schorr

E-Mail: kontakt@steinbeis-analysezentrum.com
Tel: +49 721 9735 831
Mobil: +49 172 9057349

Impressum - Datenschutz
© Steinbeis Transferzentrum | Webseite erstellt von Neckarmedia Werbeagentur
Nach oben scrollen

Wir nutzen Cookies um Ihnen eine angenehmere Erfahrung mit unserer Webseite zu bieten, zur Erhebung statistischer Daten sowie zum Onlinemarketing. Klicken Sie auf „Essentielle und statische Cookies akzeptieren“, um alle Cookies zu akzeptieren oder klicken Sie auf "Nur essentielle Cookies akzeptieren" für die Basisfunktionalität unserer Webseite. Via "Individuelle Cookie Einstellungen" erhalten Sie eine detaillierte Beschreibung der von uns verwendeten Arten von Cookies und Informationen über die entsprechenden Anbieter. Sie können dort entscheiden, welche Arten von Cookies bei der Nutzung unserer Website gesetzt werden sollen.

Essentielle und statische Cookies akzeptierenNur essentielle Cookies akzeptierenIndividuelle Cookie EinstellungenDatenschutzerklärung

Individuelle Cookie Einstellungen



Statistik Cookies

Statistik Cookies erfassen Informationen anonym. Diese Informationen helfen uns zu verstehen, wie unsere Besucher unsere Website nutzen.

Essenzielle Cookies

Essenzielle Cookies ermöglichen grundlegende Funktionen und sind für die einwandfreie Funktion der Website erforderlich.

Einstellungen speichernNur essenzielle Cookies akzeptieren
Nachrichtenleiste öffnen
  • kontakt@steinbeis-analysezentrum.com
  • +49 721 9735 831
  • Kontaktformular